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  • 白光干涉儀作為一種常用的光學(xué)測(cè)量?jī)x器,在材料科學(xué)領(lǐng)域中具有重要意義。首先,需要了解什么是白光干涉。白光是由各種波長(zhǎng)的光混合而成的,而干涉是波動(dòng)現(xiàn)象中的一種,常見(jiàn)的干涉現(xiàn)象包括光的干涉條紋、薄膜干涉等。白光干涉就是利用白光的干涉現(xiàn)象來(lái)分析材料...
  • 激光共聚焦顯微鏡原理是由LED光源發(fā)出的光束經(jīng)過(guò)一個(gè)多孔盤(pán)和物鏡后,聚焦到樣品表面。之后光束經(jīng)樣品表面反射回測(cè)量系統(tǒng)。再次通過(guò)MPD上的針孔時(shí),反射光將只保留聚焦的光點(diǎn)。最后,光束經(jīng)分光片反射后在相機(jī)上成像。為什么激光共聚焦顯微鏡成像質(zhì)量更...
  • 三維表面輪廓儀是利用光學(xué)或激光干涉原理進(jìn)行測(cè)量。它通過(guò)發(fā)射特定的光線(通常是激光束)到被測(cè)物體表面,并記錄光線的反射或散射情況。利用光學(xué)傳感器或相機(jī)來(lái)捕獲并分析這些數(shù)據(jù),進(jìn)而生成物體的三維模型和輪廓圖。這種非接觸式的測(cè)量方法不會(huì)對(duì)被測(cè)物體造...
  • 閃測(cè)儀是一種用于檢測(cè)電纜故障的儀器。閃測(cè)儀可分為數(shù)字直讀式和示波器式兩種。用閃測(cè)儀測(cè)故障時(shí)不需事先將高阻接地?zé)?,故本方法被廣泛采用?!伴W測(cè)”是測(cè)量領(lǐng)域中最新出臺(tái)一種測(cè)量?jī)x器的稱(chēng)呼,全稱(chēng)是“閃測(cè)影像儀”,英文縮寫(xiě)“VMQ”。在采用這種“閃測(cè)...
  • 目前BGA封裝技術(shù)已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè),相較于傳統(tǒng)的TSOP封裝,具有更小體積、更好的散熱性能和電性能。在BGA封裝的植球工藝階段,需要使用到特殊設(shè)計(jì)的模具,該模具的開(kāi)窗口是基于所需的實(shí)際焊球大小和電路板焊盤(pán)尺寸考慮,模具的開(kāi)窗口大小直接...
  • 在半導(dǎo)體行業(yè)中,Bump、RDL、TSV、Wafer合稱(chēng)先進(jìn)封裝的四要素,其中Bump起著界面互聯(lián)和應(yīng)力緩沖的作用。Bump是一種金屬凸點(diǎn),從倒裝焊FlipChip出現(xiàn)就開(kāi)始普遍應(yīng)用,Bump的形狀有多種,常見(jiàn)的為球狀和柱狀,也有塊狀等其他...
  • 隨著超精密加工技術(shù)的不斷進(jìn)步,各種微納結(jié)構(gòu)元件廣泛應(yīng)用于超材料、微電子、航空航天、環(huán)境能源、生物技術(shù)等領(lǐng)域。其中超精密3D顯微測(cè)量技術(shù)是提升微納制造技術(shù)發(fā)展水平的關(guān)鍵,中圖儀器自主研發(fā)的白光干涉掃描和共聚焦3D顯微形貌檢測(cè)技術(shù),廣泛應(yīng)用于涉...
  • 白光干涉儀以白光干涉為原理,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)等領(lǐng)域,對(duì)各種產(chǎn)品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、孔隙間隙、臺(tái)階高度、彎曲變形情況、磨損情況、腐蝕情況、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析,是一種常見(jiàn)的光學(xué)輪廓測(cè)...
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